Cell Fusion C Skin Blemish Balm Intensive yra daugiafunkcis balzamas, kuris suteikia odos priežiūrą, apsaugą ir kosmetinį padengimą. Jis specialiai sukurtas nuraminti jautrią ir probleminę odą, tuo pačiu suteikiant natūralią ir tolygią odos spalvą. Šis balzamas derina drėkinimą, UV apsaugą ir toninį padengimą, todėl yra puikus kasdieniam naudojimui.
Pagrindinės savybės:
Raminamasis poveikis: Sudėtyje yra raminančių ingredientų, kurie padeda sumažinti dirginimą ir paraudimą.
UV apsauga: Suteikia aukštą apsaugą nuo kenksmingo saulės poveikio (SPF 40/PA+++).
Kosmetinis padengimas: Užtikrina tolygų ir natūralų odos toną, slepia trūkumus ir pigmentines dėmes.
Drėkinimas: Išlaiko odą drėgną visą dieną, užkertant kelią sausumo jausmui.
Odos atjauninimas: Padeda pagerinti odos elastingumą ir tekstūrą, daro ją lygesnę ir sveikesnę.
Naudojimas:
Po odos valymo ir tonizavimo užtepkite tinkamą drėkinamąjį kremą.
Užtepkite nedidelį kiekį Cell Fusion C Skin Blemish Balm Intensive ant veido.
Tolygiai paskirstykite pirštų galiukais arba kempinėle, kol visiškai įsigers į odą.
Jei reikia geresnio padengimo, pridėkite papildomą sluoksnį probleminėse vietose.
Sudėtis:
Vanduo, Etilheksilmetoksicinamatas, Titano dioksidas, Butilenglikolis, Ciklopentasiloksanas, Etilheksilsalicilatas, Cinko oksidas, Cikloheksasiloksanas, Glicerinas, PEG-10 Dimetikonas, Butilenglikolio dikaprilatas/dikapratas, Lauril PEG-9 polidimetilsiloksietil dimetikonas, Niacinamidas, Dimetikonas, Trimethylsiloxysilicate, Disteardimonium hektoritas, Magnio sulfatas, Aliuminas, Sorbitano seskvioleatas, Bičių vaškas, Fenoksietanolis, Geležies oksidai (CI 77492), Geležies oksidai (CI 77491), Geležies oksidai (CI 77499), Stearino rūgštis, Aliuminio hidroksidas, Kvapas, Disodium EDTA, Adenozinas, Beta-glukanas, Hidrolizuotas kolagenas, Camellia Sinensis lapų ekstraktas, Chamomilla Recutita (Matricaria) žiedų ekstraktas, Centella Asiatica ekstraktas, Glycyrrhiza Glabra (lakrica) šaknies ekstraktas, Portulaca Oleracea ekstraktas, Pantenolis, Tokoferilio acetatas, Ceramidas NP.