Cell Fusion C Skin Blemish Balm Intensive 40ml

Cell Fusion C Skin Blemish Balm Intensive yra daugiafunkcis balzamas, kuris suteikia odos priežiūrą, apsaugą ir kosmetinį padengimą. Jis specialiai sukurtas nuraminti jautrią ir probleminę odą, tuo pačiu suteikiant natūralią ir tolygią odos spalvą. Šis balzamas derina drėkinimą, UV apsaugą ir toninį padengimą, todėl yra puikus pasirinkimas kasdieniam naudojimui.

Pagrindinės savybės:

Raminamasis poveikis: Sudėtyje yra raminančių ingredientų, kurie padeda sumažinti dirginimą ir paraudimą.
UV apsauga: Suteikia aukštą apsaugą nuo kenksmingo saulės poveikio (SPF 40/PA+++).
Kosmetinis padengimas: Užtikrina tolygų ir natūralų odos toną, slepia trūkumus ir pigmentines dėmes.
Drėkinimas: Išlaiko odą drėgną visą dieną, užkertant kelią sausumo pojūčiui.
Odos atjauninimas: Padeda pagerinti odos elastingumą ir tekstūrą, daro ją lygesnę ir sveikesnę.
Naudojimas:

Po odos valymo ir tonizavimo užtepkite tinkamą drėkinamąjį kremą.
Užtepkite nedidelį kiekį Cell Fusion C Skin Blemish Balm Intensive ant veido.
Tolygiai paskirstykite pirštų galiukais arba kempinėle, kol visiškai įsigers į odą.
Jei reikia geresnio padengimo, pridėkite papildomą sluoksnį probleminėse vietose.
Sudėtis:
Vanduo, Ethylhexyl Methoxycinnamate, Titanium Dioxide, Butylene Glycol, Cyclopentasiloxane, Ethylhexyl Salicylate, Zinc Oxide, Cyclohexasiloxane, Glycerin, PEG-10 Dimethicone, Butylene Glycol Dicaprylate/Dicaprate, Lauryl PEG-9 Polydimethylsiloxyethyl Dimethicone, Niacinamide, Dimethicone, Trimethylsiloxysilicate, Disteardimonium Hectorite, Magnesium Sulfate, Alumina, Sorbitan Sesquioleate, Beeswax, Phenoxyethanol, Iron Oxides (CI 77492), Iron Oxides (CI 77491), Iron Oxides (CI 77499), Stearic Acid, Aluminum Hydroxide, Fragrance, Disodium EDTA, Adenosine, Beta-Glucan, Hydrolyzed Collagen, Camellia Sinensis Leaf Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Centella Asiatica Extract, Glycyrrhiza Glabra (Licorice) Root Extract, Portulaca Oleracea Extract, Panthenol, Tocopheryl Acetate, Ceramide NP.